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通过亚纳米级掺入 SiOx/C 涂层调节锂传输途径以避免纳米硅容量衰减

发布时间:2024-04-12 分享至:

硅纳米粒子(NP)被认为是一种有前途的高容量阳极材料,因为它们能够防止在(脱)锂过程中体积急剧变化而导致机械故障。然而,在循环过程中,仍然观察到 Si NP 的容量快速衰减,根本机制仍然难以捉摸。
近日,武汉理工大学麦立强教授,Jinsong Wu,Liang Zhou证明了容量快速衰减的主要原因是在致密复合的 Si/SEI(固体电解质界面)混合材料中产生了电子传导性受阻的死硅(电化学惰性)。这是由于电解质相关副反应和伴随的硅纳米颗粒团聚的综合影响。
文章要点
1)研究人员在 Si NP 上构建了紧凑的亚纳米级掺入 SiOx/C 复合涂层,并在长循环下实现了高度稳定的电化学。 SiOx/C 涂层具有电子/离子双传输路径和强大的机械灵活性,可实现快速稳定的锂离子/电子向封装硅的双扩散路径。
2)所获得的Si@SiOx/C复合材料具有快速的反应动力学、稳定的SEI和抗团聚特性,表现出稳定的高容量。
这项工作揭示了硅纳米粒子容量衰减的新视角,并提供了一种有效的封装方法来弥补纳米硅的结构退化和容量衰减。
参考文献
Ruohan Yu, et al, Regulating Lithium Transfer Pathway to Avoid Capacity Fading of Nano Si through Sub-nano  Scale Interfused SiOx/C Coating, Adv. Mater. 2023
DOI: 10.1002/adma.202306504
https://doi.org/10.1002/adma.202306504

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